鋁靶材是一種用于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜的關鍵材料。它具有卓越的導電性和導熱性，因此廣泛用于半導體工業(yè)、電子器件制造和光學涂層，用于制備導電薄膜、金屬層、反射鏡涂層且可應用于散熱解決方案。鋁靶材在多個高科技領域中得到廣泛應用，為各種應用提供了高質(zhì)量的薄膜材料。
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品名 |
鋁靶材 |
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成分 |
Al |
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外觀 |
銀白色,平板或者圓筒狀 |
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純度(%) |
99.999% |
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規(guī)格(mm) |
Φ125×Φ171×L2342、W1130×L1200×T10、W200×L2650×T12 |
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雜質(zhì)≤ (ppm) |
Fe |
Ti |
Si |
Ni |
Na |
Cu |
Mg |
K |
Mo |
Cr |
Sum |
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2 |
1 |
2 |
1 |
1 |
2 |
2 |
2 |
1 |
1 |
10 |
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